精密・電子技術部門の保有設備



 設備名 : PVD装置
 
メーカ型式
神港精機(株)ARF-C1060

仕様内容
3元同時連続切替
RF/DCスパッタ成膜
基板加熱温度:max800℃
ガス導入:3系統
薄膜形成

導入年度利用料担当部門担当部用途備考予約状況
19885200 円/時間精密 設備利用 研究・相談 試作・加工
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