保有設備 詳細表示


 設備名 : 両面高精度露光機
 
メーカ型式
ズース・マイクロテックSUSS VA4 BSA

仕様内容
マスク合わせ方式:両面光学系方式
解像度:1μm以下
ウエハ表面もしくは裏面のパターンとマスク合わせを行い紫外線露光する装置

導入年度利用料担当部門担当部用途備考予約状況
20032500 円/時間精密 設備利用 研究・相談 試作・加工
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