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 保有設備 詳細表示
設備名 ： 両面高精度露光機
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| メーカ | 型式 |
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| ズース・マイクロテック�� | ＳＵＳＳ ＶＡ４ ＢＳＡ |
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| 仕様 | 内容 |
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マスク合わせ方式:両面光学系方式
解像度:１μｍ以下 | ウエハ表面もしくは裏面のパターンとマスク合わせを行い紫外線露光する装置 |
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| 導入年度 | 利用料 | 担当部門 | 担当部 | 用途 | 備考 | 予約状況 |
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| 2003 | 2500 円／時間 | 精密 | | 設備利用 研究・相談 試作・加工
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